研究業績リスト（2019（令和元）年度まで）

福井工業高等専門学校

物質工学科　古谷昌大

1. 学術雑誌等に発表した論文（レフリー付）

1. Koji Arimitsu, Hiroshi Kobayashi, Masahiro Furutani, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura, “Novel Base-amplifying Silicone Resins with Photobase-generating Side Chains”, Journal of Photopolymer Science and Technology, 2004, 17, 19-20.

2. Sinzo Kohjiya, Masatoshi Tosaka, Masahiro Furutani, Yuko Ikeda, Shigeyuki Toki, Benjamin S. Hsiao, “Role of stearic acid in the strain-induced crystallization of crosslinked natural rubber and synthetic cis-1,4-polyisoprene”, Polymer, 2007, 48, 3801-3808.

3. 登阪雅聡、古谷昌大、辻正樹、池田裕子、粷谷信三、Dhirayos Wititsuwannakul、Rapepun Wititsuwannakul、永山國昭、Radostin Danev、「新鮮なラテックスから分別された天然ゴムの伸長結晶化」、材料、2009、58、5-10.

4. Masahiro Furutani, Seiji Sakamoto, Kazuaki Kudo, “Cyclo[-His-His-] Derived C2-Symmetric Diketopiperazine as Chiral Ligand for Asymmetric Diels-Alder Reactions”, Heterocycles, 2009, 78, 1171-1176.

5. Masahiro Furutani, Kazuaki Kudo, “A trifunctional photopatterning component derived from cysteine: fabrication of a deposited silver micropattern”, Journal of Materials Chemistry, 2012, 22, 3139-3147.

6. Masahiro Furutani, Kazuaki Kudo, “Transformation of Gold(I)-cyclo[-Met-Met-] Complex Supramolecular Fibers into Aligned Gold Nanoparticles”, Chemistry Letters, 2013, 42, 601-603.

7. Nobuhiro Ishikawa, Koji Arimitsu, Masahiro Furutani, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, “Photosensitivity Characteristics of UV Curable Organic-inorganic Hybrids Sensitized with Benzoin Derivatives as Photobase Generators”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2014, 27, 223-225.

8. 有光晃二、古谷昌大、「ディスプレーのコート材」、接着の技術、2014、 34、 20-23.

9. [Front cover] Koji Arimitsu, Hiroshi Kobayashi, Masahiro Furutani, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, “Base-amplifying silicone resins generating aliphatic secondary amines autocatalytically: synthesis, characterization and application to positive-working photoresists”, Polymer Chemistry, 2014, 5, 6671-6677.

10. Koji Arimitsu, Ryousuke Yamamoto, Midori Arai, Masahiro Furutani “Photoinduced Pigmentation Using Base-reactive Indigo Precursors in a Polymer Film”, Chem. Lett., 2014, 43, 1698-1700.

11. Koji Arimitsu, Daiki Iijima, Masahiro Furutani, Yasuyuki Yamada, Takeshi Wakiya, “Preparation of Silica Particles Modified with Base-amplifying Groups and Their Application to Anionic UV Curing”, Chem. Lett., 2014, 43, 1921-1923.

12. Koji Arimitsu, Ayaka Oguri, Masahiro Furutani, “365 nm-Light-sensitive Photobase Generators Derived from Trans-o-coumaric Acid”, Mater. Lett., 2015, 140, 92-94.

13. Koji Arimitsu, Yuri Sato, Masahiro Furutani, “Synthesis of Photolatent Thiols with Nitrobenzyl groups and Their Application to Photoreactive Materials” Material Technology, 2015, 32, 153-156.

14. Koji Arimitsu, Hiroshi Kitamura, Ryuta Mizuochi, Masahiro Furutani, “Synthesis of Oxidised Thioxanthene-type Base Amplifiers and Their Application to Photoreactive Materials”, Chem. Lett., 2015, 44, 309-311.

15. [Inside back cover]Masahiro Furutani, Akihito Uemura, Akira Shigenaga, Chiaki Komiya, Akira Otaka, Kazunori Matsuura, “A photoinduced growth system of peptide nanofibres addressed by DNA hybridization”, Chem. Commun., 2015, 51, 8020-8022.

16. Masahiro Furutani, Hiroshi Kobayashi, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Koji Arimitsu, “Base-Amplifying Silicone Resins with Photobase-Generating Side Chains and Their Application to Negative-Working Photoresists”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2015, 53, 1205-1212.

17. Koji Arimitsu, Yuri Takemori, Atsushi Nakajima, Ayaka Oguri, Masahiro Furutani, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, “Photobase Generators Derived from trans-o-Coumaric Acid for Anionic UV Curing Systems without Gas Generation”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2015, 53, 1174-1177.

18. Nobuhiro Ishikawa, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Adhesive Materials Utilizing a Thymine-Adenine Interaction and Thymine Photodimerization”, ACS Macro Lett., 2015, 4, 741-744.

19. Kenji Kudo, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Imidazole Derivatives with an Intramolecular Hydrogen Bond as Thermal Latent Curing Agents for Thermosetting Resins”,  ACS Macro Lett., 2015, 4, 1085-1088.

20. Koji Arimitsu, Yuya Maruyama, Masahiro Furutani, “Photobase Generators Liberating Two Bases by One Photon and Their Application to Photosensitive Materials”, Chem. Lett., 2015, 44, 1194-1196.

21. Koji Arimitsu, Yune Kumazawa, Masahiro Furutani, “Preparation of Base-Amplifying Microcapsules and Their Application to Photoreactive Materials”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2015, 53, 2440-2443.

22. Koji Arimitsu, Motoki Yonekura, Masahiro Furutani, “Acid-amplifying polymers: synthesis, characterization, and application to environmentally stable chemical amplification positive (ESCAP) resists”, RSC Advances, 2015, 5, 80311-80317.

23. Koji Arimitsu, Sawako Fuse, Kenji Kudo, Masahiro Furutani, “Imidazole Derivatives as Latent Curing Agents for Epoxy Thermosetting Resins”, Mater. Lett., 2015, 161, 408-410.

24. Masahiro Furutani, Shinya Sato, Koji Arimitsu, “Cysteine-derived Cross-linker for Anionic UV Curing of Epoxy Resins”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2015, 28, 737-738.

25. Nobuhiro Ishikawa, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Pressure-Sensitive Adhesive Utilizing Molecular Interactions between Thymine and Adenine”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2016, 54, 1332-1338.

26. Koji Arimitsu, Shota Amano, Masahiro Furutani, “Acid-amplifying microcapsules: preparation and application to cationic UV curing”, RSC Advances, 2016, 6, 7893-7896.

27. Koji Arimitsu, Kazuki Tomota, Sawako Fuse, Kenji Kudo and Masahiro Furutani, “A non-linear organic reaction of malonate derivative as a base amplifier to generate imidazoles without producing gas”, RSC Advances, 2016, 6, 38388-38390.

28. Kenji Kudo, Sawako Fuse, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Imidazole-type Thermal Latent Curing Agents with High Miscibility for One-component Epoxy Thermosetting Resins”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2016, 54, 2680-2688.

29. Masahiro Furutani, Ayaru Kakinuma, Koji Arimitsu, “Synthesis of a Bifunctional Base Amplifier Containing a Disulfide Bond and Its Application to Photoreactive Materials” J. Photopolym. Sci. Technol., 2016, 29, 607-608.

30. Kenji Kudo, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Imidazobenzoxazin-5-ones as Thermal Latent Curing Agent for Thermosetting Epoxy Resins”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2016, 54, 3411-3414.

31. Masahiro Furutani, Shinya Sato, Koji Arimitsu, “Anionic UV curing of epoxy resins containing gold cations with cysteine derivatives”, Material Technology, 2016, 34, 113-121.

32. Masahiro Furutani, Daichi Yamakawa, Koji Arimitsu, “Synthesis and characterization of base amplifiers derived from amino acids”, Material Technology, 2016, 34, 122-130.

33. Koji Arimitsu, Yohei Suyama, Masahiro Furutani, “Epoxy thermal curing using phenylsulfonylethyl carbamates as thermal base generators”, Material Technology, 2016, 34, 130-140.

34. Masahiro Furutani, Shinya Sato, Koji Arimitsu, “Cross-linking reagent derived from cysteine and its application to anionic UV curing”, Proc. RadTech Asia 2016, 2016.

35. Kiwamu Terada, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Photosensitivity Characteristics of Novel Resists Consisting of a Photobase Generator and an Epoxy Resin”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2017, 30, 271-273.

36. 有光晃二、柳正義、古谷昌大、「有機強塩基を発生するアセト酢酸塩型光塩基発生剤の合成およびチオール－エポキシ混合樹脂のアニオンUV硬化への応用」、ネットワークポリマー、2017、 38、 158-164.

37. Koji Arimitsu, Saori Sugioka, Koji Watanabe, Masahiro Furutani, “Anionic UV curing of epoxy resins containing dispersed scaly silica modified with base-amplifying groups”, Prog. Org. Coat., 2017, 113, 185-188.

38. Masahiro Furutani, Ayaru Kakinuma, Koji Arimitsu, “A dismantlable photoadhesion system fabricated by an anionic UV curing of epoxy resins with a base amplifier having a disulfide bond”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2018, 56, 237-241.

39. Kenji Kudo, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “O-Fmoc-Protected 3-Hydroxy-2-butenoate Derivatives as Thermal Latent Curing Agents for Thermosetting Epoxy Resins”, J. Polym. Sci. A: Polym. Chem., 2018, 56, 471-474.

40. Kiwamu Terada, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Development of Photobase Generators　Liberating Radicals as well as Bases and Their Application to Hardcoating Materials”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2018, 31, 493-496.

41. Kunihiro Noda, Takehiro Seshimo, Issei Suzuki, Koichi Misumi, Dai Shiota, Shun Kikuchi, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Behavior of Si-Si Bond Oxidation by Electron Beam Lithography”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2018, 31, 581-585.

42. Masahiro Furutani, Takashi Ide, Shinobu Kinoshita, Raita Horiguchi, Ichiro Mori, Kazuhiro Sakai, Koji Arimitsu, “Initiator-free photopolymerization of common acrylate monomers with 254-nm light”, Polym. Int., 2019, 68, 79-82.

43. [One of the top downloaded] Kiwamu Terada, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu, “Photoresist materials comprising photobase generators and epoxy resins bearing carboxylic acids to lead to marked enhancement of base-catalyzed cross-linking reactions”, Polym. Adv. Technol., 2018, 30, 304-311.

44. [Front cover] Koji Arimitsu, Eishiro Hiraga, Masahiro Furutani, “Photopatterning of PEDOT Derivatives with Photoacid Generators and Acid Amplifiers Generating Polystyrenesulfonic Acid”, ACS Appl. Polym. Mater., 2019, 1, 928-932.

45. Masahiro Furutani, Kaoru Endo, Koji Arimitsu, “Synthesis of dimerized 2-mercaptopyridine derivatives and their application to dismantlable photoadhesives”, Mater. Technol., 2019, 37, 27-31.

46. Kunihiro Noda, Shun Kikuchi, Naohiro Ikuma, Dai Shiota, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu “Structural Analysis of Ionic Photobase Generators and Lithographic Patterning of Polysilane Films Containing the Photobase Generators”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2019, 32, 265-270.

47. Masahiro Furutani, Kentaro Nakayama, Kazuki Okuma, Koji Arimitsu “Photoadhesive of Acrylates Containing Cross-links of Dipyridyl Disulfide”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2019, 32, 619-622.

48. Masahiro Furutani, Kazuki Okuma, Koji Arimitsu “Relief of Shrinkage of UV-cured Materials by Exchange Reactions of Disulfide Bonds”, J. Photopolym. Sci. Technol., 2019, 32, 623-626.

 

 

2. 論文（レフェリー無し）

1. 粷谷信三、登阪雅聡、古谷昌大、Sirilux Poompradub、池田裕子、「スマートin situナノコンポジット：天然ゴムの伸長結晶化」、日本化学繊維研究所講演集、2005、 62、53-65．

 

 

3. 研究報告等

1. Masahiro Furutani, “Effective anionic UV curing for a thermally dismantlable photoadhesive having disulfide bonds”, Proceedings of 3rd Edition of International Conference and Exhibition on Polymer Chemistry, 2018, 4, 58.

 

 

4. 論説、展望、解説等

1. 古谷昌大、登阪雅聡、粷谷信三、池田裕子、「架橋天然ゴムの伸長結晶化における非ゴム成分，特にステアリン酸の効果について」、接着、2005、49、202-207．

2. 有光晃二、古谷昌大、「光塩基発生剤および塩基増殖剤の開発とアニオンUV硬化への応用」、科学と工業、2014、88、 397-404.

3. 有光晃二、古谷昌大、「壁や天井を自由に歩くことができるボディスーツ」、TUS Journal、2016、202、 3-3.

4. 古谷昌大、「RadTech Asia 2016 体験記」、放射線化学会誌103号、2017、1頁.

5. 古谷昌大、有光晃二、「光で固めて，熱で分かつ―光接着とその熱解体」、理大科学フォーラム、2018、35、 34-39.

6. 古谷昌大, 有光晃二, “ジスルフィド結合などの開裂性化学結合を利用した解体性接着剤”, 日本接着学会誌、2018、54、 302-309.

7. 古谷昌大、「256th ACS」、理大科学フォーラム、2019、413、 46.

 

 

5. 著書、訳書

1.   有光晃二、古谷昌大、「第7章　光塩基発生剤」、UV・EB硬化技術の最新応用展開－3Dプリンターから住環境まで－（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2014、50-54.

2.   有光晃二、石井拓、古谷昌大、「第8章　光潜在性チオール」、UV・EB硬化技術の最新応用展開－3Dプリンターから住環境まで－（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2014、55-61.

3.   有光晃二、天野翔太、古谷昌大、「第9章　光開環メタセシス重合開始剤」、UV・EB硬化技術の最新応用展開－3Dプリンターから住環境まで－（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2014、62-65.

4.  有光晃二、飯島大貴、古谷昌大、「第15章　UV硬化型有機-無機複合材料」、UV・EB硬化技術の最新応用展開－3Dプリンターから住環境まで－（監修　有光晃二）、シーエムシー出版、2014、111-119.

5.　有光晃二、古谷昌大、「第6章　光塩基発生剤および塩基増殖剤」、電子部品用エポキシ樹脂-半導体実装材料の最先端技術-（監修　高橋昭雄）、シーエムシー出版、2015、73-81.

6.　有光晃二、古谷昌大、「第2章　酸・塩基増殖反応を利用した超高感度フォトレジスト材料」、最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術（監修　河合　晃）、シーエムシー出版、2017、43-49.

 

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6. 学会発表

1. 第5回電気泳動によるセラミックの高次成形法研究討論会（早稲田大学）

アルミナ水系および非水系サスペンションのEPD特性

○打越哲郎1)、古谷昌大2)、目義雄1)　1)金材研、2)東理大理工

2. 第83回日本化学会（早稲田大学）

光塩基発生能を有する塩基増殖性シロキサンオリゴマーの合成と性質（3C6-13）

有光晃二1)、○古谷昌大1)、郡司天博1)、阿部芳首1)、市村國宏1)　1)東理大理工

3. 2003年度材料技術研究会討論会（東京理科大学）

光塩基発生基を有する塩基増殖性オリゴシロキサンの合成と光反応性材料

阿部芳首1)、郡司天博1)、〇有光晃二1)、古谷昌大1)、市村國宏1)　1)東理大理工

4. 第52回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

光塩基発生能を有する塩基増殖性シロキサンオリゴマーの合成と光パターニングへの応用

有光晃二1)、〇古谷昌大1)、郡司天博1)、阿部芳首1)、市村國宏1)　1)東理大理工

5. 第21回フォトポリマーコンファレンス（千葉大学）

光塩基発生基を有する塩基増殖性オリゴシロキサンの合成と感光特性

有光晃二1)、〇小林洋1)、古谷昌大1)、郡司天博1)、阿部芳首1)、市村國宏1)　1)東理大理工

6. 第53回高分子学会年次大会（神戸国際会議場）

天然ゴム架橋体の伸長結晶化機構

〇登阪雅聡1)、古谷昌大1)、Poompradub Sirilux1)、こうじ谷信三1)、池田裕子2)　

1)京大化研 2)京工繊大工芸

7. 第53回高分子学会年次大会（神戸国際会議場）

架橋天然ゴムの伸長結晶化におけるステアリン酸添加の影響（1Pd010）

〇古谷昌大1)、Poompradub Sirilux1)、登阪雅聡1)、こうじ谷信三1)、池田裕子2)　

1)京大化研 2)京工繊大工芸

8. 第50回高分子研究発表会（兵庫県民会館）

架橋天然ゴムにおけるステアリン酸と伸長結晶化（C1-7）

〇古谷昌大1)、Poompradub Sirilux1)、登阪雅聡1)、こうじ谷信三1)、池田裕子2)、土岐重之3)、Sics Igors3)、Hsiao Benjamin3)　

1)京大化研 2)京工繊大工芸 3)New York州立大

9. Symposium on Molecular Chirality 2007（東京理科大学）

Cyclo[-His-His-]誘導体を配位子とする銅触媒不斉Diels-Alder反応（PP-61）

〇古谷昌大1)、坂本清志1)、工藤一秋1)　1)東大生産研

10. 第89回日本化学会（日本大学）

Cyclo[-His-His-]型キラル配位子を用いた銅触媒不斉Diels-Alder反応

〇古谷昌大1)、坂本清志1)、工藤一秋1)　1)東大生産研

11. 第59回高分子学会年次大会（パシフィコ横浜）

アミノ酸の多官能性を利用した光による銀マイクロパターン形成（2Pf116）

〇古谷昌大1)、工藤一秋1)　1)東大生産研

12. 第93回日本化学会（立命館大学）

金(I)-メチオニン環状ジペプチド錯体超分子ファイバーの調製および金ナノ粒子列への変換（2Pc133）

〇古谷昌大1)、工藤一秋1)　1)東大生産研

13. 第94回日本化学会（名古屋大学）

光切断によりナノファイバー成長誘起されるペプチド分子システムの創製（1G5-47）

〇古谷昌大1)、重永章2)、小宮千明2)、大高章2)、松浦和則1)　1)鳥取大院工 2)徳島大院薬

14. 第63回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

光切断によりb-シート繊維成長するアニオン性ペプチドの分子設計（1Pe129）

森口正登1)、古谷昌大1)、重永章2)、小宮千明2)、大高章2)、〇松浦和則1)　

1)鳥取大院工 2)徳島大院薬

15. 第31回フォトポリマーコンファレンス（千葉大学）

ベンゾイン骨格を有する光塩基発生剤の開発と光反応性材料への応用

〇石川信広1)、有光晃二1)、古谷昌大1)、郡司天博1)、阿部芳首1)　1)東理大理工

16. 第63回高分子討論会（長崎大学）

アゾベンゼンを有する粗い高分子膜表面における濡れ性の光スイッチング（1R19）

〇小宮健1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

17. 第63回高分子討論会（長崎大学）

ガス発生を伴わない塩基増殖剤を用いた光反応性材料の感光特性評価（1O06）

〇友田和貴1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

18. 第63回高分子討論会（長崎大学）

酸増殖マイクロカプセルの特性に対して殻剤ポリマーの化学構造が与える効果（2S04）

〇天野翔太1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

19. 第63回高分子討論会（長崎大学）

酸化チタンを含むシロキサン－エポキシ樹脂のUV硬化とセルフクリーニング材料への応用（1R20）

〇立花優香1)、古谷昌大1)、有光晃二1),2)　1)東理大理工 2)東理大光触媒国際研究センター

20. 第63回高分子討論会（長崎大学）

光酸発生剤を利用した導電性高分子の乾式光パターニング（1O07）

〇窪寺俊1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

21. 第63回高分子討論会（長崎大学）

シクロカーボナート樹脂の合成とそのアニオンUV硬化材料への応用（2N13）

〇永井英理1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

22. 第63回高分子討論会（長崎大学）

種々の酸を発生する酸増殖剤の開発とEUVリソグラフィーへの応用（1O08）

〇高橋謙太朗1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

23. 第63回高分子討論会（長崎大学）

新規非脱炭酸型塩基増殖剤を用いたエポキシ樹脂のアニオンUV硬化（2N14）

〇河原慎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

24. 第63回高分子討論会（長崎大学）

光切断により誘起されるペプチドナノファイバー成長システムの創製（2U07）

〇松浦和則1)、古谷昌大1)、植村明仁1)、重永章2)、小宮千明2)、大高章2)　

1)鳥取大院工 2)徳島大院薬

25. 第63回高分子討論会（長崎大学）

新規熱酸発生剤を用いた光誘起フロンタル重合（2B04）

〇田上勝大1)、古谷昌大1)、有光晃二1)、竹本香織2)　1)東理大理工 2)積水化学工業

26. 第63回高分子討論会（長崎大学）

高分子の熱分解を利用した無機微粒子の表面改質（1R18）

〇関皓平1)、古谷昌大1)、有光晃二1)、吉谷博司2)、野里省二2)、中壽賀章2)　

1)東理大理工 2)積水化学工業

27. 第63回高分子討論会（長崎大学）

チミン－アデニン相互作用とチミンの光2量化を利用した新規接着ポリマー（3R08）

〇石川信広1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

28. 第63回高分子討論会（長崎大学）

種々のジアミンを発生する光塩基発生剤を用いたエポキシ樹脂のアニオンUV硬化（1O05）

〇丸山裕椰1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

29. 第63回高分子討論会（長崎大学）

塩基増殖マイクロカプセルを用いた汎用エポキシ樹脂のアニオンUV硬化（2S03）

〇熊沢優音1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

30. 第4回CSJ化学フェスタ（タワーホール船堀）

スルホニウム塩骨格を有する光反応性酸増殖剤を用いたノボラック樹脂の光可溶化（P3-104）

〇岩崎哲也1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

31. 第4回CSJ化学フェスタ（タワーホール船堀）

光環化型強塩基発生剤のポジ型光パターニングへの応用（P3-102）

〇米田聡1)、伊田孟倫1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

32. 第32回高分子学会千葉地域活動若手セミナー（千葉工業大学）

システイン誘導体を用いた機能性接着剤の開発（P-42）

○佐藤慎弥1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

33. 第64回高分子学会年次大会（札幌コンベンションセンター）

6員環シクロカーボナート樹脂を用いたアニオンUV硬化（1H06）

○永井英理1)、阪内敦子2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　 1)東理大理工 2)日本合成化学

34. 第64回高分子学会年次大会（札幌コンベンションセンター）

含フッ素酸増殖剤を用いた導電性高分子の乾式光パターニング（1G19）

○窪寺俊1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

35. 第64回高分子学会年次大会（札幌コンベンションセンター）

塩基増殖反応を用いたエポキシ樹脂の厚膜アニオンUV硬化（1H07）

○下田将久1)、小山幸恵2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工 2)豊田自動織機

36. 第64回高分子学会年次大会（札幌コンベンションセンター）

種々の超強酸を発生する熱酸発生剤を用いた光誘起フロンタル重合（1H08）

○田上勝大1)、竹本香織2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工 2)積水化学工業

37. 第64回高分子学会年次大会（札幌コンベンションセンター）

塩基増殖基を有する鱗片状シリカを分散させたエポキシ樹脂のアニオンUV硬化（2H24）

○杉岡早織1)、古谷昌大1)、有光晃二1)、渡部功治2)　1)東理大理工 2)ナガセケムテックス

38. 第64回高分子学会年次大会（札幌コンベンションセンター）

DNAによりアドレスされたペプチドナノファイバーの光誘起成長システムの構築（2Pe111）

○植村明仁1)、古谷昌大1)、松浦和則1)、重永章2)、小宮千明2)、大高章2)　

1)鳥取大院工 2)徳島大院薬

39. 第64回高分子学会年次大会（札幌コンベンションセンター）

有機・無機複合材料のアニオンUV硬化を利用した無機パターンの作製（2H25）

○浅井陸1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

40. 第64回高分子学会年次大会（札幌コンベンションセンター）

Grubbs触媒を内包したマイクロカプセルを用いた開環メタセシス重合（2G24）

○松谷浩暉1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

41. 第64回高分子学会年次大会（札幌コンベンションセンター）

イミダゾールを発生する液状熱潜在性硬化剤の開発と熱硬化性樹脂への応用（3C03）

○友田和貴1)、工藤健二1,2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工 2)日本合成化学

42. 第25回バイオ・高分子シンポジウム（東京工業大学）

DNAでアドレスされた光誘起ペプチド繊維成長システムの構築（第2日No.25）

○松浦和則1)、植村明仁1)、古谷昌大1)、重永章2)、小宮千明2)、大高章2)　

1)鳥取大院工 2)徳島大院薬

43. First International Symposium on Recent Progress of Energy and Environmental Photocatalysis (Photocatalysis 1)

Self-cleaning properties of anionic UV cured siloxane-epoxy resins containing TiO2 particles（PP1-78）

Koji Arimitsu,a,b ○Yuka Tachibana,b Masahiro Furutania,b

a) Photocatalysis International Research Center, Tokyo Univ. Sci. b) Tokyo Univ. Sci.

44. 第64回高分子討論会（東北大学）

エポキシ樹脂系厚膜のアニオンUV硬化（1Q10）

○下田将久1)、小山幸恵2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工 2)豊田自動織機

45. 第64回高分子討論会（東北大学）

シクロカーボナート樹脂を用いたアニオンUV硬化材料の特性評価（1Q11）

○永井英理1)、阪内敦子2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　 1)東理大理工 2)日本合成化学

46. 第64回高分子討論会（東北大学）

光誘起フロンタル重合に向けた新規熱超強酸発生剤の開発（1Q08）

○田上勝大1)、竹本香織2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工 2)積水化学工業

47. 第64回高分子討論会（東北大学）

塩基増殖基を有する鱗片状シリカを分散させたアニオンUV硬化膜の特性（1Q12）

○杉岡早織1)、古谷昌大1)、有光晃二1)、渡部功治2)　1)東理大理工 2)ナガセケムテックス

48. 第64回高分子討論会（東北大学）

光塩基発生剤を用いた有機‐無機複合材料の光パターニング（1Q09）

○浅井陸1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

49. 第64回高分子討論会（東北大学）

一液型熱硬化性樹脂に利用可能なイミダゾール系液状熱潜在性硬化剤の開発（2Q05）

○友田和貴1)、工藤健二1,2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工 2)日本合成化学

50. 第64回高分子討論会（東北大学）

分子内水素結合を有するイミダゾール誘導体の合成と熱潜在性硬化剤への応用（2Q06）

○工藤健二1,2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工 2)日本合成化学

51. 第64回高分子討論会（東北大学）

光塩基発生剤を用いた感光性ポリイミドのネガ型パターニング（2O13）

○岡安克起1)，郭揚眉2)，三輪崇夫2)，古谷昌大1)，有光晃二1)

1)東理大理工 2) 太陽ホールディングス

52. 第64回高分子討論会（東北大学）

Grubbs触媒内包マイクロカプセルの熱潜在性評価（2Q03）

○松谷浩暉1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

53. 第64回高分子討論会（東北大学）

チミン‐アデニンの分子間相互作用を用いた粘着剤の開発（3Q04）

○石川信広1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

54. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Cysteine derived cross-linker for anionic UV curing of epoxy resins (MACR428)

○Masahiro Furutani,1 Shinya Sato,1 Koji Arimitsu1  1) Tokyo Univ. Sci.

55. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Novel acid amplifiers for UV or EUV lithography with high photosensitivity and resolution (MTLS730)

○K. Takahashi,1 M. Furutani,1 K. Arimitsu1  1) Tokyo Univ. Sci.

56. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Dry process photopatterning of a conducting polymer using photoinduced acid proliferation reactions (MTLS741)

○S. Kubodera,1 M. Furutani,1 K. Arimitsu1  1) Tokyo Univ. Sci.

57. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Preparation of anionic UV curing films containing dispersed titania particles and their application to self-cleaning materials (MACR741)

○Y. Tachibana,1 M. Furutani,1,2 K. Arimitsu1,2

1) Tokyo Univ. Sci., 2) Photocatalysis International Research Center

58. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Preparation of anionic UV-cured coating films including scaly silica modified with base-amplifying groups (MACR748)

○S. Sugioka,1 K. Watanabe,2 M. Furutani,1 K. Arimitsu1

1) Tokyo Univ. Sci., 2) Nagase ChemteX Corporation

59. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Synthesis of novel liquid-type latent curing agents to generate imidazoles and their application to thermosetting resins (MACR1053)

○K. Kudo,1,2 S. Fuse,1 M. Furutani,1 K. Arimitsu1

1) Tokyo Univ. Sci., 2) The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.

60. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Resist materials using base proliferation reactions (MACR1266)

○T. Hashima,1 K. Terada,1 M. Furutani,1 K. Arimitsu1

1) Tokyo Univ. Sci., 2) Nippon Kayaku Co.,Ltd.

61. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Fabrication of positive-tone photopatterns by using photocyclization-type photobase generators (MACR1267)

○S. Yoneda,1 T. Ida,1 M. Furutani,1 K. Arimitsu1  1) Tokyo Univ. Sci.

62. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Anionic UV curing of thick epoxy resin films by base amplifiers (MACR1269)

○N. Shimoda,1 Y. Koyama,1,2 M. Furutani,1 K. Arimitsu1

1) Tokyo Univ. Sci., 2) TOYOTA INDUSTRIES CORPORATION

63. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Photosensitive polyimide material containing photobase generator and fabrication of negative-tone micropatterns (MACR1286)

○K. Okayasu,1 Y. Guo,2 T. Miwa,2 M. Furutani,1 K. Arimitsu1

1) Tokyo Univ. Sci., 2) TAIYO HOLDINGS CO., LTD.

64. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Application to anionic UV curing of six-membered cyclic carbonate resins (MACR1290)

○E. Nagai,1 A. Sakauchi,1,2 M. Furutani,1 K. Arimitsu1

1) Tokyo Univ. Sci., 2) The Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.

65. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Micro-photopatterning of trapped cycloolefin polymer via thiol-ene reactions (MACR1291)

○A. Kakinuma,1 I. Hazeyama,2 M. Furutani,1 K. Arimitsu1

1) Tokyo Univ. Sci., 2) Zeon Corporation

66. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Photoinduced growth system of peptide nanofibers addressed by DNA hybridization (BIOL985)

○A. Uemura,1 M. Furutani,1 K. Matsuura,1 A. Shigenaga,2 C. Komiya,2 A. Otaka2

1) Tottori Univ., 2) Tokushima Univ.

67. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Fabrication of organic/inorganic composite micropatterns by anionic UV curing process (MTLS2384)

○A. Asai,1 M. Furutani,1 K. Arimitsu1  1) Tokyo Univ. Sci.

68. 2015 International Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem2015)

Adhesive materials utilizing molecular interaction of thymine-adenine and photodimerization of thymine (MACR1465)

○N. Ishikawa,1 M. Furutani,1 K. Arimitsu1  1) Tokyo Univ. Sci.

69. 第9回精密ネットワークポリマー研究会若手シンポジウム（兵庫県立大学）

架橋剤としてシステイン誘導体を用いたエポキシ樹脂のアニオンUV硬化（P8）

○古谷昌大1)、佐藤慎弥1)、有光晃二1)  1)東理大理工

70. 第9回精密ネットワークポリマー研究会若手シンポジウム（兵庫県立大学）

光発生した塩基による室温下での有機-無機複合パターンの作製

○浅井陸1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

71. 第65回高分子学会年次大会（神戸国際会議場）

光誘起ペプチドナノファイバー成長の時空間制御（1H22）

○松浦和則1)、植村明仁1)、中原正彦1)、古谷昌大1)、重永章2)、小宮千明2)、大高章2)

1)鳥取大院工、2)徳島大院薬

72. 第65回高分子学会年次大会（神戸国際会議場）

光強塩基発生剤を用いたレドックス重合によるUV硬化（2D10）

○仲本和紀1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

73. 第65回高分子学会年次大会（神戸国際会議場）

イミダゾベンゾキサジン－５－オン誘導体の合成と熱潜在性硬化剤への応用（2E17）

○工藤健二1,2)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工, 2)日本合成化学工業

74. 第65回高分子学会年次大会（神戸国際会議場）

カスケード反応を利用したエポキシ樹脂のアニオンUV硬化（2E18）

○下田将久1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

75. 第65回高分子学会年次大会（神戸国際会議場）

様々な温度で崩壊するGrubbs触媒内包マイクロカプセルの調製（2E19）

○松谷浩暉1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

76. 第65回高分子学会年次大会（神戸国際会議場）

光重合による機能性マイクロカプセルの調製（2E20）

○髙橋春花1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

77. 第65回高分子学会年次大会（神戸国際会議場）

ポリマーブレンド相分離構造の光誘起自己現像を用いた粗い膜表面の作製と濡れ性制御への応用（2Pd048）

○丹下一騎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

78. 第65回高分子学会年次大会（神戸国際会議場）

塩基増殖基を有するリンペン状ガラスを分散配向させたエポキシ樹脂UV 硬化膜の作製（2Pe083）

○杉岡早織1)、古谷昌大1)、尾添弘章2)、渡部功治2)、有光晃二1)

1)東理大理工, 2)ナガセケムテックス

79. 第65回高分子学会年次大会（神戸国際会議場）

有機-無機複合材料のアニオンUV 硬化を利用した3 次元造形物の作製（2Pf084）

○浅井陸1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

80. 第65回高分子学会年次大会（神戸国際会議場）

ニトロキシドの熱解離を利用した無機微粒子のポリマーグラフト（2Pe085）

○雪岡諒1)、古谷昌大1)、有光晃二1)、吉谷博司2)、野里省二2)、中壽賀章2)

1)東理大理工, 2)積水化学工業

81. 第33回フォトポリマーコンファレンス（幕張メッセ）

ジスルフィド結合を有する二官能塩基増殖剤の合成と光反応性材料への応用

○古谷昌大1)、柿沼斐晃1)、有光晃二1)  1)東理大理工

82. 第10回バイオ関連化学シンポジウム（石川県立音楽堂）

光誘起ペプチドナノファイバー成長に基づくリポソームの並進運動制御（1A-13）

○稲葉央1)、植村明仁1)、古谷昌大1)、森下和史1)、古曳泰規2)、重永章2)、大高章2)、松浦和則1)　1)鳥取大院工, 2)徳島大院薬

83. 第65回高分子討論会（神奈川大学）

365 nm光に感光する光潜在性チオールの合成と光反応性材料への応用（1Pb092）

○岩田瑛里香1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

84. 第65回高分子討論会（神奈川大学）

アゾベンゼン部位の光異性化による濡れ性変化を増幅する粗い膜表面の光形成（1Pa093）

○丹下一騎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

85. 第65回高分子討論会（神奈川大学）

Grubbs触媒内包マイクロカプセルの調製と熱硬化材料への応用（2K04）

○松谷浩暉1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

86. 第65回高分子討論会（神奈川大学）

カスケード反応によるエポキシ樹脂の高感度アニオンUV硬化（2K05）

○有光晃二1)、下田将久1)、古谷昌大1)  1)東理大理工

87. 第65回高分子討論会（神奈川大学）

塩基増殖反応を利用したレドックス重合によるUV硬化（2N11）

○仲本和紀1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

88. 第65回高分子討論会（神奈川大学）

光環化反応を用いた新規な光塩基発生剤の開発と光反応性材料への応用（2N12）

○大洞圭次郎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

89. 第65回高分子討論会（神奈川大学）

光重合によるマイクロカプセルの調製と機能評価（2N13）

○髙橋春花1)、古谷昌大1)、脇屋武司2)、有光晃二1)  1)東理大理工, 2)積水化学工業

90. 第65回高分子討論会（神奈川大学）

末端ニトロキシドを有するポリマーを用いた無機微粒子の化学修飾（2Pe067）

○雪岡諒1)、古谷昌大1)、有光晃二1)、吉谷博司2)、野里省二2)、中壽賀章2) 

1)東理大理工, 2)積水化学工業

91. RadTech Asia 2016（ヒルトン東京お台場）

Cross-linking reagent derived from cysteine and its application to anionic UV curing（G5-04）

○Masahiro Furutani,1 Shinya Sato,1 Koji Arimitsu1  1) Tokyo Univ. Sci.

92. 第6回CSJ化学フェスタ（タワーホール船堀）

光接着と熱解体への応用を目指したアニオンUV硬化系の構築（2P-105）

○柿沼斐晃1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

93. 第6回CSJ化学フェスタ（タワーホール船堀）

光誘起塩基増殖反応を利用した高架橋密度エポキシ樹脂硬化膜の作製（2P-109）

○羽島大貴1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

94. 第10回精密ネットワークポリマー研究会若手シンポジウム（近畿大学）

光潜在性チオールを用いたアクリレート樹脂のUV硬化（P36）

○岩田瑛里香1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

95. 第10回精密ネットワークポリマー研究会若手シンポジウム（近畿大学）

含ジスルフィド結合塩基増殖剤の熱解体性光接着剤への応用（P37）

○古谷昌大1)、柿沼斐晃1)、有光晃二1)  1)東理大理工

96. 第34回高分子学会千葉地域活動若手セミナー（東京理科大学）

2-メルカプトピリジル基を架橋部位として持つ高分子硬化膜の作製と性質（No.32）

○遠藤馨1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

97. 第66回高分子学会年次大会（幕張メッセ）

分子内光環化反応により強塩基を発生する光塩基発生剤を用いた高感度アニオンUV硬化（1G05）

○大洞圭次郎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

98. 第66回高分子学会年次大会（幕張メッセ）

アミンとラジカルを発生する光塩基発生剤の開発とハードコート材料への応用（1G06）

○寺田究1, 2)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工, 2)日本化薬

99. 第66回高分子学会年次大会（幕張メッセ）

連鎖的にイミダゾールを発生する連鎖硬化剤を利用した厚膜のアニオンUV硬化（1G07）

○大城康太1)、寺田究1, 2)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工, 2)日本化薬

100. 第66回高分子学会年次大会（幕張メッセ）

超強酸を発生する酸増殖剤の合成とカチオンUV硬化への応用（1G12）

○秋山京平1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

101. 第66回高分子学会年次大会（幕張メッセ）

i線によるUV硬化に向けた光潜在性チオールの開発（1G13）

○岩田瑛里香1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

102. 第66回高分子学会年次大会（幕張メッセ）

システイン誘導体を用いた含金カチオンエポキシ樹脂のアニオンUV硬化（1G14）

○古谷昌大1)、佐藤慎弥1)、有光晃二1)  1)東理大理工

103. 第66回高分子学会年次大会（幕張メッセ）

ポリシランの光開裂を利用した化学修飾チタニア微粒子の調製と光機能（1Pc073）

○工藤美希1)、古谷昌大1, 2)、有光晃二1, 2) 

1)東理大理工, 2) 東理大光触媒国際研究センター

104. 第66回高分子学会年次大会（幕張メッセ）

アゾベンゼン高分子ブレンド系における光誘起相転移および相分離を利用した表面濡れ性の可逆スイッチング（1G15）

○丹下一騎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

105. 第66回高分子学会年次大会（幕張メッセ）

ラジカルおよびアニオンUV硬化を用いた傾斜構造を有する有機-無機複合コーティング膜の作製（1Pd074）

○佐々木彩乃1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

106. 第66回高分子学会年次大会（幕張メッセ）

UV curing of thick films by a free radical photopolymerization system utilizing a redox reaction（2K15）

○Kazuki Nakamoto,1 Masahiro Furutani,1 Koji Arimitsu,1 Akira Nakasuga2 

1)東理大理工, 2)積水化学工業

107. 第66回高分子学会年次大会（幕張メッセ）

酸増殖剤とN-置換ポリアニリンを用いた導電性パターンの光作製（3F15）

○平賀瑛士郎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

108. 第55回日本接着学会年次大会（関西大学）

2-メルカプトピリジン誘導体の合成および易解体性光接着剤への応用（A-4）

○古谷昌大1)、遠藤馨1)、有光晃二1)  1)東理大理工

109. 第34回フォトポリマーコンファレンス（幕張メッセ）

光塩基発生剤を用いた新規なエポキシ樹脂系レジストの感光特性（B4-02）

○寺田究1, 2)、古谷昌大2)、有光晃二2)  1) 日本化薬, 2)東理大理工

110. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

有機過酸化物を光ラジカル開始剤として用いたアクリレート樹脂厚膜パターンの光作製（1Pd092）

○石﨑雄輝1)、林昌樹2)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工, 2)日油

111. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

連鎖硬化剤のアニオンUV硬化系を利用したエポキシ厚膜の光パターニング（1Pc093）

○大城康太1)、寺田究2)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工, 2)日本化薬

112. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

光塩基発生剤を含むポリヒドロキシイミドの感光特性（1Pd094）

○髙嶋美沙樹1)、三井康敬2)、三輪崇夫2)、古谷昌大1)、有光晃二1) 

1)東理大理工, 2)太陽ホールディングス

113. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

N-置換ポリアニリンの乾式光パターニングにおける酸増殖剤の添加効果（1Pc095）

○平賀瑛士郎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

114. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

バルク体のUV硬化に向けた低温レドックス光重合系の構築（1Pd096）

○仲本和紀1)、古谷昌大1)、有光晃二1)、中壽賀章2)  1)東理大理工, 2)積水化学

115. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

種々の分子量を有するニトロキシド末端ポリマーを用いた無機微粒子表面のポリマーグラフト（1Y16）

○雪岡諒1)、古谷昌大1)、有光晃二1)、吉谷博司2)、野里省二2)、中壽賀章2) 

1)東理大理工, 2)積水化学

116. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

ポリシランを表面修飾したチタニア微粒子の調製とセルフクリーニング材料への応用（1Y17）

○工藤美希1)、古谷昌大1, 2)、有光晃二1, 2) 

1)東理大理工, 2)東理大光触媒国際研究センター

117. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

ジスルフィド含有ポリマー材料によるUV 接着およびその熱解体（2Y02）

○古谷昌大1)、遠藤馨1)、柿沼斐晃1)、有光晃二1)  1)東理大理工

118. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

アゾベンゼン高分子ブレンド膜における光誘起相転移を利用した濡れ性変化の増幅（2Y03）

○丹下一騎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

119. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

アゾベンゼン高分子ブレンド膜における解重合反応を利用した表面粗さの創出および濡れ性増幅（2Pb048）

○丹下一騎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

120. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

アミンとラジカルを発生するベンゾイン誘導体を光塩基発生剤として用いたＵＶハードコート材料（3X03）

○寺田究1, 2)、古谷昌大2)、有光晃二2)  1) 日本化薬, 2)東理大理工

121. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

チオール/エポキシ混合樹脂のアニオンUV 硬化を用いた接着フィルムの開発（3X04）

○岩田瑛里香1)、古谷昌大1)、有光晃二1)、大當友美子2)、森谷敏光2)、伊澤弘行2) 

1)東理大理工, 2)日立化成

122. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

シロキサン樹脂の偏析を利用した傾斜構造を有する有機-無機複合コーティング膜のUV 硬化（3X05）

○佐々木彩乃1)、竹上功起2)、古谷昌大1)、有光晃二1) 

1)東理大理工, 2)豊田自動織機

123. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

強塩基を発生する非イオン型の光塩基発生剤を用いた光反応性材料の特性（3X06）

○大洞圭次郎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

124. 第66回高分子討論会（愛媛大学）

超強酸増殖剤によるカチオンUV 硬化材料の高感度化（3X07）

○秋山京平1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

125. 第7回CSJ化学フェスタ（タワーホール船堀）

強塩基を発生する非イオン型光塩基発生剤の開発（P9-138）

○大洞圭次郎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

126. 2017年度材料技術研究協会討論会（東京理科大学野田キャンパス）

分子内光環化反応による第3級アミンの生成と光反応性材料への応用（P-04）

○大洞圭次郎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

127. 2017年度材料技術研究協会討論会（東京理科大学野田キャンパス）

[招待] アニオンUV硬化に向けた潜在性硬化剤の分子設計（1SB-02）

○古谷昌大1)、佐藤慎弥1) 、須山洋平1) 、山川大智1) 、有光晃二1)  1)東理大理工

128. 3rd Edition of International Conference and Exhibition on Polymer Chemistry（Vienna, Austria）

Effective anionic UV curing for a thermally dismantlable photoadhesive having disulfide bonds（Day 2

○Masahiro Furutani1)  1) Tokyo Univ. Sci.

129. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

254 nm光を用いたアクリラートモノマーの光開始剤フリー光重合（1C11）

○古谷昌大1)、井出崇2)、木下忍2)、堀口雷太3)、森一郎3)、坂井和宏3)、

有光 晃二1)  1)東理大理工, 2)アイ・エレクトロンビーム, 3)岩崎電気

130. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

第三級アミンを発生する光塩基発生剤を開始剤として用いた光アニオン重合（1D23）

○中本康弘1)、大村健人2)、小池信明2)、古谷昌大1)、有光晃二1) 

1)東理大理工, 2)東亞合成

131. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

チオキサントン型光塩基発生剤を用いた傾斜構造をもつ有機‐無機複合コーティング膜の高感度光作製（1Pe099）

○佐々木彩乃1)、竹上功起2)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工, 2)豊田自動織機

132. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

ポリシラン修飾チタニア微粒子の調製とその光触媒機能評価（1Pf100）

○工藤美希1)、古谷昌大1,2)、有光晃二1,2) 

1)東理大理工, 2)東理大光触媒国際研究センター

133. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

光塩基発生剤を用いた化学修飾ポリヒドロキシイミドのポジ型光パターニング（2Pb084）

○髙嶋美沙樹1)、三井康敬2)、古谷昌大1)、有光晃二1) 

1)東理大理工, 2)太陽ホールディングス

134. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

超強塩基を発生する光塩基発生剤を用いたポリシラン膜の光パターニング（2Pa085）

○菊地駿1)、野田国宏2)、塩田大2)、古谷昌大1)、有光晃二1) 

1)東理大理工, 2)東京応化

135. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

超強酸増殖剤によるレジスト材料の高感度化（2Pb086）

○秋山京平1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

136. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

メタクリラートの高感度ラジカルUV硬化系の探索（2Pa087）

○湖海結菜1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

137. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

可視光吸収を持つ電荷移動錯体を開始剤として用いた光ラジカル重合（2Pb088）

○竹村健吾1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

138. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

分子内光環化反応により発生する第三級アミンを用いたUV硬化膜の作製（2Pd076）

○秋山崇文1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

139. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

エポキシ/ビスマレイミド混合樹脂のアニオンUV硬化（2Pc077）

○畠山寧々1)、袴田祐介2)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工, 2)ケイアイ化成

140. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

新規な連鎖硬化剤を利用した厚膜のアニオンUV硬化系の構築（2Pd078）

○大城康太1)、松田智明1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

141. 第67回高分子学会年次大会（名古屋国際会議場）

光酸発生剤と酸増殖剤を含むPEDOT類縁体膜の乾式光パターニング（3Pc077）

○平賀瑛士郎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)  1)東理大理工

142. 第56回日本接着学会年次大会（東京大学）

UV硬化材料内部のジスルフィド結合交換反応による硬化収縮の解消（P23A）

○古谷昌大1)、大熊一輝1)、有光晃二1)　1)東理大理工

143. 第35回フォトポリマーコンファレンス（幕張メッセ）

電子線描画によるSi-Si結合の酸化挙動（B4-14）

○野田国宏1,2)、瀬下武広1)、鈴木一生1)、三隅浩一1)、塩田大1)、菊地駿2)、古谷昌大2)、有光晃二2)　1)東京応化工業, 2)東理大理工

144. The 35th International Conference of Photopolymer Science and Technology（幕張メッセ）

Development of Photobase Generators Liberating Radicals as well as Bases and Their Application to Hardcoating Materials (A-113)

○Kiwamu Terada,1,2 Masahiro Furutani,2 Koji Arimitsu2　1) NIPPON KAYAKU, 2) Tokyo Univ. Sci.

145. 256th ACS National Meeting（Boston Convention & Exhibition Center）

Application of photobase generators liberating radicals as well as bases to hardcoating materials (PMSE 499)

○Kiwamu Terada,1,2 Masahiro Furutani,2 Koji Arimitsu2　1) NIPPON KAYAKU, 2) Tokyo Univ. Sci.

146. 256th ACS National Meeting（Boston Convention & Exhibition Center）

Anionic UV curing systems using photochemical generation of organic strong bases (PMSE 500)

○Koji Arimitsu,1 Tomonori Ida,1 Masahiro Furutani1　1) Tokyo Univ. Sci.

147. 256th ACS National Meeting（Boston Convention & Exhibition Center）

Radical UV-cured materials containing disulfide bonds and their physical properties (PMSE 508)

○Masahiro Furutani,1 Kazuki Okuma,1 Koji Arimitsu1　1) Tokyo Univ. Sci.

148. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

光塩基発生剤を含む化学修飾ポリヒドロキシイミドの感光特性（1W05）

○髙嶋美沙樹1)、秋田寛哉2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　

1)東理大理工、2)太陽ホールディングス

149. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

光塩基発生剤から発生する超強塩基によるポリシラン膜の光パターニング（1W06）

○菊地駿1)、野田国宏2)、塩田大2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　

1)東理大理工、2)東京応化

150. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

ポリスチレンスルホン酸を発生させる酸増殖剤を用いたPEDOT類縁体膜の乾式光パターニング（1W07）

○平賀瑛士郎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

151. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

ラジカル-アニオンUV硬化により作製可能な傾斜型有機-無機複合コーティング膜（1K15）

○佐々木彩乃1)、宗像秀典2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工、2)豊田自動織機

152. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

ポリシランの光開裂を利用したチタニア微粒子へのグラフトと光触媒機能（1K16）

○工藤美希1)、古谷昌大1,2)、有光晃二1,2)　

1)東理大理工、2)東理大光触媒国際研究センター

153. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

254 nm単色光照射をトリガーとするアクリラートの光ラジカル重合（1Pf076）

○古谷昌大1)、井出崇2)、木下忍2)、堀口雷太3)、森一郎3)、坂井和宏3)、有光晃二1)　

1)東理大理工、2)アイ・エレクトロンビーム、3)岩崎電気

154. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

分子内光環化反応により強塩基を発生する光塩基発生剤の合成と光反応性材料への応用（2M12）

○秋山崇文1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

155. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

光塩基発生剤から発生する第三級アミンによる影部の光アニオン重合（2M13）

○中本康弘1)、大村健人2)、小池信明2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　

1)東理大理工、2)東亞合成

156. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

電荷移動錯体の可視光吸収により開始されるアクリラートの光ラジカル重合（2M14）

○竹村健吾1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

157. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

超強酸を発生させる熱酸発生剤を用いた種々のエポキシモノマーのカチオン重合（2M15）

○秋山京平1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

158. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

連鎖移動反応を組み込んだメタクリラートのラジカルUV硬化（2V16）

○湖海結菜1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

159. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

エポキシ樹脂のアニオンUV硬化系へのビスマレイミド樹脂の混合効果（2V17）

○畠山寧々1)、袴田祐介2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工、2)ケイアイ化成

160. 第67回 高分子討論会（北海道大学）

厚膜アニオンUV硬化のためのカスケード式反応系の構築（2V18）

○大城康太1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

161. 第8回CSJ化学フェスタ（タワーホール船堀）

エポキシ樹脂厚膜のアニオンUV硬化に向けた連鎖硬化剤の開発（P9-106）

○大城康太1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

162. The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018)（広島国際会議場）

Relaxation of internal stress in UV-cured materials by using exchange reactions between disulfide bonds（6F06）

○Masahiro Furutani,1 Kazuki Okuma,1 Koji Arimitsu1　1) Tokyo Univ. Sci.

163. The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018)（広島国際会議場）

Photopatterning of PEDOT derivatives by using an acid amplifier generating polystryrenesulfonic acid（6F07）

○Eichiro Hiraga,1 Masahiro Furutani,1 Koji Arimitsu1　1) Tokyo Univ. Sci.

164. The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018)（広島国際会議場）

Radical polymerization using charge transfer complexes as a visible light-sensitive initiator（7P-T1-013a）

○Kengo Takemura,1 Masahiro Furutani,1 Koji Arimitsu1　1) Tokyo Univ. Sci.

165. The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018)（広島国際会議場）

Photo-induced anionic polymerization initiated by photobase generators generating tertiary amines（7P-T1-053a）

○Yasuhiro Nakamoto,1 Kento Oomura,2 Nobuaki Koike,2 Masahiro Furutani,1 Koji Arimitsu1　1) Tokyo Univ. Sci., 2) TOAGOSEI CO., LTD.

166. The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018)（広島国際会議場）

Fabricating photopatterns of polysilane sensitized with photobase generators generating superbases（7P-T1-080b）

○Shun Kikuchi,1 Kunihiro Noda,2 Dai Shiota,2 Masahiro Furutani,1 Koji Arimitsu1　1) Tokyo Univ. Sci., 2) TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

167. The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018)（広島国際会議場）

Construction of anionic UV curing systems for thick films using chain curing agents（7P-T1-081a）

○Kouta Ooki,1 Masahiro Furutani,1 Koji Arimitsu1　1) Tokyo Univ. Sci.

168. The 12th SPSJ International Polymer Conference (IPC2018)（広島国際会議場）

Synthesis of novel acid amplifers generating superacids and their application to cationic UV curing systems（7P-T1-082b）

○Kyohei Akiyama,1 Masahiro Furutani,1 Koji Arimitsu1　1) Tokyo Univ. Sci.

169. 平成30年度接着講座マスターコース（名古屋市工業研究所）

[依頼] 開裂性化学結合の解体性接着剤への応用（第III講）

○古谷昌大1)　1)東理大理工

170. 精密ネットワークポリマー研究会 第12回 若手シンポジウム（東京理科大学）

光塩基発生剤を含むエポキシ/ビスマレイミド混合樹脂のアニオンUV硬化特性（P7）

○畠山寧々1)、袴田祐介2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工、2) ケイ・アイ化成

171. 精密ネットワークポリマー研究会 第12回 若手シンポジウム（東京理科大学）

電荷移動錯体を開始剤として用いる可視光による光ラジカル重合（P8）

○竹村健吾1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

172. 精密ネットワークポリマー研究会 第12回 若手シンポジウム（東京理科大学）

連鎖移動反応性を有するメタクリラートのラジカルUV硬化特性（P9）

○湖海結菜1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

173. 精密ネットワークポリマー研究会 第12回 若手シンポジウム（東京理科大学）

超強塩基を発生する光塩基発生剤を含むポリシラン膜のネガ型光パターニング（P19）

○菊地駿1)、野田国宏2)、塩田大2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　

1)東理大理工、2) 東京応化工業

174. 精密ネットワークポリマー研究会 第12回 若手シンポジウム（東京理科大学）

分子内光環化反応により強塩基を生成する光塩基発生剤を用いた光反応性材料の感光特性評価（P20）

○秋山崇文1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

175. 第36回 高分子学会千葉地域活動若手セミナー（東京理科大学）

2-メルカプトピリジル基の性質を利用した新規光接着剤の性質（高01）

○中山健太郎1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

176. 第68回高分子学会年次大会（大阪国際会議場）

水素引抜き反応を利用したメタクリラートの効率的なラジカルUV硬化（1H21）

○湖海結菜1)、野口宗2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工、2)リコー

177. 第68回高分子学会年次大会（大阪国際会議場）

電荷移動錯体を光開始剤として用いた可視光ラジカル重合（1H22）

○竹村健吾1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

178. 第68回高分子学会年次大会（大阪国際会議場）

光塩基発生剤を用いたシアノアクリラート膜の影部における光誘起アニオン重合（2H03）

○中本康弘1)、小池信明2)、大村健人2)、古谷昌大1)、有光晃二1)

　1)東理大理工、2)東亞合成

179. 第68回高分子学会年次大会（大阪国際会議場）

第三級アミンを発生する光塩基発生剤を用いた酸無水物混合エポキシ樹脂のアニオンUV硬化（2H04）

○叶依風1)、大當友美子2)、森谷敏光2)、古谷昌大1)、有光晃二1)

　1)東理大理工、2)日立化成

180. 第68回高分子学会年次大会（大阪国際会議場）

脱炭酸を伴わず強塩基とラジカルを発生する光塩基発生剤の合成と光反応性材料への応用（2H05）

○秋山崇文1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

181. 第68回高分子学会年次大会（大阪国際会議場）

光塩基発生剤とチオール・エポキシ混合樹脂を用いた柔軟なUV硬化膜の作製（2H08）

○小松原怜真1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

182. 第68回高分子学会年次大会（大阪国際会議場）

混合樹脂のアニオンUV硬化における エポキシおよびマレイミド基の反応挙動（2H09）

○畠山寧々1)、袴田祐介2)、福山昇治2)、古谷昌大1)、有光晃二1)

　1)東理大理工、2)ケイアイ化成

183. 第68回高分子学会年次大会（大阪国際会議場）

光および熱塩基発生剤を含むポリシラン膜の高強度な光パターン形成（2H10）

○菊地駿1)、野田国宏2)、塩田大2)、古谷昌大1)、有光晃二1)

　1)東理大理工、2)東京応化

184. 第68回高分子学会年次大会（大阪国際会議場）

2-メルカプトニコチン酸から誘導される架橋剤を用いた光接着剤の開発（2F18）

○古谷昌大1)、中山健太郎1)、遠藤馨1)、有光晃二1)　1)東理大理工

185. 第68回高分子学会年次大会（大阪国際会議場）

i線光源に対応可能な光潜在性チオールの合成とチオール・エンUV硬化系への応用（3Pa063）

○原口咲栄子1)、岩田瑛里香1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

186. 第68回高分子学会年次大会（大阪国際会議場）

光塩基発生剤を用いた多官能イソシアナート/チオール系のアニオンUV硬化（3Pb064）

○鈴木真由1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

187. 第68回高分子学会年次大会（大阪国際会議場）

光酸発生剤および酸解重合性ポリマーを用いた無機微粒子へのポリマーグラフト（3F11）

○長谷川大騎1)、雪岡諒1)、古谷昌大1)、有光晃二1)、吉谷博司2)、野里省二2)、

中壽賀章2)　1)東理大理工、2) 積水化学

188. 第57回日本接着学会年次大会（北九州国際会議場）

ジピリジルジスルフィド架橋構造を有する光接着剤の接着特性（P34B）

○古谷昌大1)、中山健太郎1)、有光晃二1)　1)東理大理工

189. The 36th International Conference of Photopolymer Science and Technology（幕張メッセ）

Structural Analysis of Ionic Photobase Generators and Lithographic Patterning of Polysilane Films Containing the Photobase Generators (A-56)

○Kunihiro Noda,1,2 Shun Kikuchi,2 Naohiro Ikuma,1 Dai Shiota,1 Masahiro Furutani,2 Koji Arimitsu2　1) Tokyo Ohka Kogyo, 2) Tokyo Univ. Sci.

190. 第36回フォトポリマーコンファレンス（幕張メッセ）

ジピリジルジスルフィド架橋構造を有するアクリラート光接着剤（B4-05）

○古谷昌大1)、中山健太郎1)、大熊一輝1)、有光晃二1)　1)東理大理工

191. 第36回フォトポリマーコンファレンス（幕張メッセ）

ジスルフィド交換反応を利用したUV硬化物の収縮解消（B4-06）

○古谷昌大1)、大熊一輝1)、有光晃二1)　1)東理大理工

192. 第68回 高分子討論会（福井大学）

増感剤を用いた光アニオン重合におけるシアノアクリラートとマロネートモノマーの共重合挙動（1Pa067）

○中本康弘1)、大村健人2)、大房一樹2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　

1)東理大理工、2)東亞合成

193. 第68回 高分子討論会（福井大学）

アニオンUV硬化における多官能イソシアナートおよびチオールの化学構造の影響（1Pa068）

○鈴木真由1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

194. 第68回 高分子討論会（福井大学）

光接着材料中におけるジピリジルジスルフィド架橋構造の化学状態（1Pb086）

○古谷昌大1)、中山健太郎1)、有光晃二1)　1)東理大理工

195. 第68回 高分子討論会（福井大学）

光酸発生に続くポリマーの解重合を利用した無機微粒子へのポリマーグラフト（1U13）

○長谷川大騎1)、雪岡諒1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

196. 第68回 高分子討論会（福井大学）

光環化反応により強塩基に変化する新規な光塩基発生剤の合成と光反応性材料への応用（1V15）

○秋山崇文1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

197. 第68回 高分子討論会（福井大学）

光環化反応により強塩基を遊離する新規な光塩基発生剤の合成と光反応性材料への応用（1V16）

○秋山崇文1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

198. 第68回 高分子討論会（福井大学）

様々な酸無水物を併用したエポキシ樹脂のアニオンUV硬化（1V17）

○叶依風1)、大當友美子2)、森谷敏光2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　

1)東理大理工、2)日立化成

199. 第68回 高分子討論会（福井大学）

可視光重合系における光開始剤としての電荷移動錯体の調製と評価（1V18）

○竹村健吾1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

200. 第68回 高分子討論会（福井大学）

光誘起レドックス開始重合系による室温下での影部UV硬化（1V19）

○植竹和基1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

201. 第68回 高分子討論会（福井大学）

10) 連鎖移動能を持つ架橋剤を用いたメタクリラートのラジカルUV硬化（3V02）

○湖海結菜1)、野口宗2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工、2)リコー

202. 第68回 高分子討論会（福井大学）

チオール・エポキシ混合樹脂と光塩基発生剤を用いて光作製した柔軟なUV硬化膜の物性評価（3V03）

○小松原怜真1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

203. 第68回 高分子討論会（福井大学）

温和な条件で光硬化するエポキシ/ビスマレイミド混合樹脂アニオンUV硬化系の構築（3V04）

○畠山寧々1)、袴田祐基2)、松野秀則2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　

1)東理大理工、2)ケイアイ化成

204. 第68回 高分子討論会（福井大学）

365 nm光に感光する光潜在性チオールを用いたチオール・エンUV硬化挙動（3V05）

○原口咲栄子1)、岩田瑛里香1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

205. 第68回 高分子討論会（福井大学）

光および熱により発生する塩基を用いたポリシラン膜の光パターニングと高強度化（3U06）

○菊地駿1)、野田国宏2)、塩田大2)、古谷昌大1)、有光晃二1)　

1)東理大理工、2)東京応化

206. 2019MRS Fall Meeting & Exhibit (the Hynes Convention Center)

A Cross-linking Reagent Derived from 2-Mercaptonicotinic Acid and Its Application to Photoadhesive Materials (SB01.06.12)

○Masahiro Furutani,1 Kentaro Nakayama,1 Koji Arimitsu1  1) Tokyo Univ. Sci.

207. 精密ネットワークポリマー研究会 第13回 若手シンポジウム（東京工業大学）

[招待] SS結合を含むネットワークポリマーのUV接着材料への応用

○古谷昌大1)　1)東理大理工

208. 精密ネットワークポリマー研究会 第13回 若手シンポジウム（東京工業大学）

エポキシ・チオール混合樹脂と光塩基発生剤を用いた柔軟なUV硬化膜の作製と物性評価（P2）

○小松原怜真1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

209. 精密ネットワークポリマー研究会 第13回 若手シンポジウム（東京工業大学）

365 nm光に感光する光潜在性チオールの合成とチオール・エンUV硬化系への応用（P12）

○原口咲栄子1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

210. 精密ネットワークポリマー研究会 第13回 若手シンポジウム（東京工業大学）

イソシアナート/チオール系のアニオンUV硬化における化学構造の影響（P15）

○鈴木真由1)、古谷昌大1)、有光晃二1)　1)東理大理工

211. 第100回 日本化学会（東京理科大学）

2-メルカプトピリジル基をもつモノマーの合成と光接着材料への応用（1G5-34）

○古谷昌大1)、藤平大輝1)、有光晃二1)　1)東理大理工

 

 

7. 受賞

1. 2003材料技術研究協会討論会ポスター賞奨励賞，材料技術研究協会

有光晃二，古谷昌大，郡司天博，阿部芳首，市村國宏

「光塩基発生基を有する塩基増殖性オリゴシロキサンの合成と光反応性材料への応用」

2. 平成28年度　材料技術研究協会　論文賞，材料技術研究協会

古谷昌大，佐藤慎弥，須山洋平，山川大智，有光晃二

「アニオンUV硬化に向けた潜在性硬化剤の分子設計」

 

以上

 

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